详细信息
全球首款二维半导体单晶MOCVD系统 ，面向MoS₂ / WSe₂等高质量大面积单晶的研发与量产。配备2×金属有机源+2×气态前驱体，精装调控源流量/温度参数 ，集成实时监测保障工艺稳定性。薄膜面内均匀性 >99.5%、层数可控、缺陷密度低 ；6英寸晶圆任意位点载流子迁移率>100 cm²V‾¹s‾¹，光电响应度 >105 A/W，性能超越传统CVD工艺，为下一代集成电路制造的核心装备。
系统特点
• 大尺寸晶圆：2-12 英寸
• “即插即用” 单晶工艺包
• 高质量、高精度工艺一致性
• 支持光学检测、原位监测扩展
• 智能防呆设计
应用展示
二维单晶外延生长
